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什么是真空陰極磁控濺射鍍膜法?

2015-04-27 17:06  建設工程教育網(wǎng)整理  【  【打印】【我要糾錯】

鍍膜玻璃的真空陰極磁控濺射鍍膜法,是將玻璃置于真空室中,在真空室內通入反應性氣體,當對濺射陰極通電時,在電場的作用下,從陽極表面發(fā)射出電子,電子在電場的加速下能量迅速提高,高能電子將于陰極表面區(qū)域的空間的氣體分子相碰撞,使氣體分子電離,帶正電的粒子在電場的加速下,高速向陰極表面撞擊,將金屬粒子擊出,同時由于粒子碰撞靶表面產生大量二次電子,電子又在電場的加速下成為高能電子,從而維持這種導常輝光放電。其中,被帶正電的粒子從靶表面出的金屬粒子,會沉積在玻璃上,形成薄膜。采用這種方法,可以進行多層膜的生產,可形成的材料極多。絕大部分的金屬和無機非金屬均可成膜。

“控陰極濺射的原理”是在陰極內部裝有永久磁鐵或電磁鐵。磁場穿透陰極表面的金屬濺射靶,在對濺射陰極通電時,產生了一次電子,一次電子既在磁場束縛下又在電場的加速下,形成螺旋式運動軌跡,大大增加了加速時間及運動路程,提高了與空間氣體分子相碰撞的幾率和速度,從而提高了濺射沉積率。

采用真空磁控濺射鍍膜法生產熱反射鍍膜玻璃,是目前國際上生產大面積鍍膜玻璃的最先進工藝方法,比傳統(tǒng)的鍍膜方法在產品質量、功能、勞動生產率、成本等方面有顯著的改進。除具有上述特點外采用真空磁控濺射鍍膜法生產熱反射鍍膜玻璃,還具有膜層牢固和均勻,化學穩(wěn)定性能好等優(yōu)點。并能獲得多種理想的光學性能和豐富的反射顏色。

責任編輯:ivor
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